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实验室小型真空磁控离子溅射镀膜仪实验室溅射镀膜仪

产品参数加工定制：是品牌：其他电镀位置：其他镀种：真空镀膜型号：KT-Z1650PVD 适用范围：金属靶材镀膜产品别名：小型蒸镀仪电镀电源：直流电源规格：台样品台：直径50mm *功率：1000w 溅射电源：直流溅射电源产品特点小型直流磁控溅射仪，离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。

试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。

在必要时，交换试样与阴**的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。

铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴**材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴**材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体小型溅射仪是一种常见的表面处理设备，它主要用于在各种材料表面上构建薄膜。

为了制备薄膜，小型溅射仪采用了一种将固体材料转化为气态的方法，称为溅射。

在小型溅射仪中，工件通常是放置在真空室内，并通过电**与溅射源相连。

在真空环境下，高能量的离子将撞击溅射源，将其喷出的材料转化为气态粒子，并沉积在工件表面上，形成一层均匀的薄膜。

小型溅射仪可以利用不同的材料和材料的混合来制备许多种不同的薄膜，包括金属、陶瓷、高分子材料等。

这些薄膜通常用于电子、光学、生物、磁性和化学领域的应用中。

小型溅射仪通常具有结构简单、易于维护、占用空间小的特点，其尺寸也相对较小，适合进行小规模的实验和研究。

此外，小型溅射仪可以与其他设备相结合，例如电子束蒸发设备和离子注入设备，以实现更多的表面处理功能。

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